fa رفتار الکتروشیمیایی فولاد دوبلکس 2205 در محلول‌های اسیدی، خنثی و بازی با مقادیر pH‌های مختلف در حضور یون کلراید عمومى General پژوهشي Research رفتار الکتروشیمیایی فولاد دوبلکس 2205 در محلول‌های اسیدی و بازی با مقادیر pH‌های مختلف در حضور 3.5 % سدیم کلرید (NaCl)، با استفاده از تکنیک‌های مختلف از جمله نمودارهای پلاریزاسیون چرخه ای،طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی ((EIS و اندازه گیری ظرفیت(آزمون مات شاتکی) بررسی شد. همچنین، ویژگی‌های سطح و مکان‌های شروع خوردگی حفره ای در فولاد ضد زنگ دوبلکس با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی(SEM) بررسی شد. با توجه به نمودار‌های مات شاتکی، لایه پسیو تشکیل شده بر سطح فولاد دوبلکس رفتار نیمه هادی از نوع n و p را در محدوده پتانسیل از 0.4- تا1/1 ولت نشان می دهد. نتایج نشان می دهد که pH نقش مهمی در مقاومت لایه پسیو، پروسه انتقال بار و وقوع خوردگی حفره ای دارد. در محلول‌های اسیدی با کاهش مقدار pH، از دست دادن جرم افزایش پیدا می کند و در محلول‌های بازی، کاهش pH محلول شرایط بهتری برای تشکیل فیلم پسیو با رفتار حفاطتی بهتر ناشی از افزایش ضخامت لایه پسیو همراه با عیوب کمتر در این لایه فراهم می کند. در 10= pH به دلیل وجود بزرگترین محدوده پسیو،کمترین جریان پسیو و بالاترین مقاومت پلاریزاسیون، لایه اکسیدی پسیو در این pH پایداری بیشتری را در محیط سدیم کلرید نشان می دهد.<br> <br> * ابراهیمی، مینا ـ دانش آموخته کارشناسی ارشد، مهندسی بازرسی فنی، دانشگاه صنعت نفت، دانشکده نفت آبادان، آبادان<br> دانایی، ایمان ـ دانشیار، الکتروشیمی، دانشگاه صنعت نفت، دانشکده نفت آبادان، آبادان، ایران<br> اسکندری، هادی ـ استادیار، مهندسی مکانیک، دانشگاه صنعت نفت، دانشکده نفت آبادان، آبادان، ایران<br> فرزام، منصور ـ دانشیار، مواد و متالورژی، دانشگاه صنعت نفت، دانشکده نفت آبادان، آبادان، ایران The electrochemical behavior of 2205 duplex stainless steel in acidic, neutral and alkaline solutions with different pH values in the presence of 3.5% NaCl was evaluated by different techniques: cyclic potentiodynamic measurements, electrochemical impedance spectroscopy (EIS) and capacitance measurements (Mott&ndash;Schottky approach). In addition the surface morphology and the site of pitting nucleated preferentially of the duplex stainless steel was investigated by scanning electron microscopy (SEM). Mott&ndash;Schottky analysis revealed that passive films formed on duplex stainless steel, behaved as n-type and p type semiconductor (double structure). In neutral and acidic solutions, n-type semiconductor behavior was in the potential range of -0.4 up to 0.4V. Similar behavior in alkaline solutions in the potential ranges of 0.1 to 0.35V happened; but p-type semiconductor behavior for the potential range of around 0.4 to 0.7V in acidic and neutral solutions and of -0.4 to 0.1V and 0.35 to 0.7V for alkaline solutions happened. The results indicated that the pH play important roles in the evolution of the film resistance, charge transfer processes and the occurrence of pitting. In acidic solutions the decrease of pH value caused more weight loss and in alkaline solutions, decreasing the solution pH offered better conditions for forming passive films with higher protection behavior, due to the growth of a much thicker and less defective film. At pH 10, almost largest passive range, smallest passive current density and highest polarization resistance; the most stable passive film was produced. کلیدواژه: فولاد ضدزنگ دوبلکس, لایه پسیو, نمودار پلاریزاسیون چرخه ای,امپدانس,مات شاتکی Duplex Stainless Steel, Passive, Mott-Schottky, EIS, Cyclic Polarization Curve, 75 88 http://journal.ica.ir/browse.php?a_code=A-10-1-92&slc_lang=fa&sid=1